嘉晶提供100~200mm的磊晶矽晶圓產品。 由基板到磊晶層的規格可依據客戶的元件特性進行設計與生產，依據不同的特性與需求，選擇設計適合的生產方式與製程條件。

依據磊晶設備的種類，大致可區分Batch Type與Single Type兩種。

Epi Reactor	Wafer Diameter	Epi Thickness	Epi Resistivity
Single Wafer	125 – 200 mm	0.5 – 120 μm	0.01 – 1000 Ω.cm
Batch Type	100 – 150 mm	1 – 200 μm	0.01 – 200 Ω.cm

Process Flow