Si Epitaxy 矽磊晶

嘉晶提供100~200mm的磊晶矽晶圓產品。 由基板到磊晶層的規格可依據客戶的元件特性進行設計與生產,依據不同的特性與需求,選擇設計適合的生產方式與製程條件。

依據磊晶設備的種類,大致可區分Batch Type與Single Type兩種。

 

Epi Reactor

Wafer Diameter

Epi Thickness

Epi Resistivity

Single Wafer

125 – 200 mm

0.5 – 60 μm

0.01 – 1000 Ω.cm

Batch Type

100 – 150 mm

1 – 200 μm

0.01 – 200 Ω.cm

 

Process Flow

03-1