硅外延
嘉晶提供100~200mm的外延硅片产品，由硅片到外延层的规格可依据客户的组件特性进行设计与生产，依据不同的特性与需求，选择设计适合的生产方式与工艺条件。
依据外延设备的种类，大致可区分Batch Type与Single Type两种。
|
Epi Reactor |
Wafer Diameter |
Epi Thickness |
Epi Resistivity |
|---|---|---|---|
|
Single Wafer |
125 – 200 mm |
0.5 – 60 μm |
0.01 – 1000 Ω.cm |
|
Batch Type |
100 – 150 mm |
1 – 200 μm |
0.01 – 200 Ω.cm |
Process Flow
